КаталогАвтоматикаПроцесс-дисплеи, регуляторы, контроллерыУстройства управления PLCУстройства управления PLC6ES7215-1AF40-0XB0

6ES7215-1AF40-0XB0, Модуль: программируемый контроллер PLC; 24ВDC; Входы:14; IP20, Siemens

Арт: 300-50-476
  • добавить в избранное
  • Арт: 300-50-476
  • Наименование: 6ES7215-1AF40-0XB0
  • Производитель: Siemens
  • Доп.наименование: Модуль: программируемый контроллер PLC; 24ВDC; Входы:14; IP20
  • Склад:
    Изображение товара дано только в качестве иллюстрации. См. спецификацию продукта (pdf)
    Заказать Цены указаны без НДС

    Модуль: программируемый контроллер PLC; 24ВDC; Входы:14; IP20 Технические параметры
    • ADC Channels: 14
    • Additional functions: 150kB program memory
    • Analogue Output Type: 0 ... 20 mA
    • Baud Rate Max.: 100Мбит/с
    • Body dimensions: 130x100x75mm
    • Communication Interface Type: PROFINET
    • Continuity Check: Yes
    • Data Buffer: 480h
    • Data Memory: 150кБайт
    • Digital Input Type: 24VDC
    • Height Units: 4
    • Input 1 type: digital
    • IP Rating: IP20
    • Linear Position Sensor Output Type: 0 ... 10 VDC
    • Load Current: 500 mA,Number of Digital Inputs
    • Manufacturer: Siemens
    • Module type: PLC programmable controller
    • Mounting Type: DIN Rail Mount
    • Number of analog inputs: 2
    • Number of analog outputs: 2
    • Number of inputs: 14
    • Number of outputs: 10
    • Operating temperature: -20...60°C
    • Operating Voltage Max.: 24V
    • Operating Voltage Min.: 20V
    • Output 1 type: transistor
    • Output Current 2: -888
    • Outputs: 2
    • Program Capacity: 4Мбайт
    • Programming Language Used: Ladder Diagram (LD) Function Block Diagram (FBD) Structured Control Language (SCL)
    • Ripple & Noise (%): -999
    • Series: S7-1200
    • Standards Met: SIL 3 CE cULus FM KC RCM UL
    • Supply voltage: 24VDC
    • The programming method: PC
    HMI управление и мониторинг 03.04.2017

    Устройства с громоздким названием "человеко-машинный интерфейс" (HMI) специально разработаны для машиностроения и технологических процессов Читать далее >